國產光刻機蓄勢待發，院士卻發出呼籲，華為的“芯痛”被無視了？

為了擺脫對美系技術的依賴，實現晶片自主，我國不可謂不努力，不僅牽頭成立了世界級的晶片基地“東方芯港”，還為了國產半導體產業的發展開啟了“綠燈”，比如“減免稅收”、“激勵創新”等多項扶持政策。

國產光刻機蓄勢待發

而在壟斷級別的技術裝置問題上，比如光刻機等等，

中科院等科研機構挺身而出，特意成立了專項技術攻關小組

，以助力國產裝置廠商實現“去美化”。這取得了立竿見影的效果，在無法從ASML進口EUV的情況下，

沒有退路的國產光刻水平進步飛快

。

在高階領域，清華大學突破了SSMB光源技術，讓被“神話”已久的EUV光刻機看起來不再也不過如此。

在中低端領域，上海微電子自研的國產光刻機已從90nm精度突破到了28nm，

且這款28nm新一代光刻機已完成技術檢測，預計年內便可正式下線商用

。

這都預示著，國產光刻機已蓄勢待發。

總體來看，不管是半導體產業的整體佈局，或者是細分領域技術的專項突破，我們都做足了準備，且鬥志昂揚

院士卻發出呼籲

然而，誰曾想到，在所有人都期待突破瓶頸的關鍵時刻，國內院士卻發出呼籲，國產晶片產業被猝不及防地澆了一盆冷水。

在第五屆數科與工程國際會議上，吳漢明院士公開表態：

EUV光刻機是全球智慧的結晶

，含有的配件技術不下十萬種，僅美國就佔比27%，而5000家供應商分別來自全球各地區，如今

我們一個國家憑一己之力就想要完成，顯然是不現實的

。

另外，院士還表示：

與其在EUV上無謂的浪費時間，倒不如正確面對市場，專心把55nm國產晶片給“吃透”

。

事實上，55nm-28nm的成熟工藝晶片在未來2年內，或仍會是市場主流，可問題是，兩年後呢？我們就不用面對EUV這座“大山”了？還是指望老美解除限制？恐怕這才是最不現實的。

華為的“芯”痛被無視了？

不知道這是否是院士有意拋給海外的“幌子”，好迷惑對手讓對手鬆懈，從而為國產半導體產業的發展爭取時間。

可無論如何，

華為的“芯”痛不該被無視！

作為最先進的國產科技企業之一，華為為我國科技發展所做的貢獻有目共睹，華為5G已成中國科技走向世界的名片。卻因為太過優秀、觸碰到老美的利益蛋糕，而被毫無理由地斷供晶片，這顯然是我們不能接受的。

如果放任老美不公平、不合理的“欺負”這樣的“功臣”，而不予有效的迴應，反而在光刻機的研發面前“知難而退”，那才叫輸得徹底

。

在不能解決華為“芯”痛的前提下，“中國芯”就不能算是真正意義的崛起。

總結

近幾年，國產企業被晶片“卡脖子”的教訓應該是刻骨銘心的，突破封鎖、實現技術自主或許有一定的難度，可即便再難，我們也不能退縮，因為落後就可能會受到“屈辱”，它的代價太大了。

何況，再尖端的技術裝置都是由人創造的，而不是神創造的。既然外國人能做到，那我們就一定能，而且要做得更好！