純國產28奈米光刻機年底下線，並且組裝純國產生產線！其工藝水平相當於5年前的蘋果處理器

摩爾芯聞今天發文稱，上海微電子計劃在2021年底之前生產出一臺28nm深紫外DUV光刻機，並在上海專有生產線上為物聯網裝置製造48nm和28nm晶片。上海微電子管理層最近報告稱，提高48nm和28nm工藝良率仍然是一個挑戰，但上海微電子在技術上目前已擁有基本的本土UV能力，無需M國IP製造晶片。上海微電子在一個極其困難的技術領域能夠取得進展，已經很出人意料。

說句實在的

28奈米工藝雖然現在看比較落後，但實際上已經能滿足很多需要了，基本上是四五年前的最新技術了。很多人現在還在用四年前的旗艦機吧？所以說真的很不容易了。而且如果用在其他領域，28奈米完全夠用，這個工藝水平可比M國最先進的f35戰鬥機上用的晶片強多了，所以一旦投用，我們至少能夠靠自己的力量保證晶片的基本供應了。

至於更新的技術什麼時候能實現？目前

EUV光刻機原理已經攻破，但是工程實用化還是需要時間，但願能早日突破吧。我們國家也成立了大規模積體電路產業化的專項工程，簡稱02工程，專門統一部署公關半導體產業的整體發展，就是要解決半導體卡脖子的問題。

相信在國家的統一部署下，我國半導體產業一定能夠快馬加鞭，早日趕上世界最先進水平！

大家覺得呢？歡迎在評論區留言討論！