iPhone 14將會採用屏下FaceID和挖孔屏設計

這幾年“全面屏”的概念在國產手機已經廣為盛行，為了剋制難點，各家廠商也是竭盡所能、絞盡腦汁，有搞彈出屏，但比較重，不防水、不防塵，有搞挖孔屏，破壞了整個螢幕的一體感。

還有搞屏下攝像頭的，螢幕倒是完整了，體驗沒話說，但是有利有弊，前置拍照的質量陡然下降了很多，綜合來看，目前還沒有一個各方面都能令人滿意的方案。

尤其巨頭蘋果，在這方面一向都非常保守謹慎，在國產手機各種“全面屏”推出了多種形態、多代產品之後，蘋果依然不為所動，堅持即用劉海屏，但是最近據海外博主爆料， iPhone 14可能在這方面有所推進。

據傳，明年 iPhone 14 Pro 和 Pro Max 機型可能會採用屏下Face ID，其相應元件是紅外鏡頭（infrared Camera）、泛光感應元件，點陣投影器（dot projector）會放置於螢幕的方面，而不是以前的劉海的凹槽處。蘋果採用屏下相機的可能性非常小，最有可能採用的方案是挖孔屏，還有傳言稱Touch ID 可能也會位於螢幕下面。