好訊息不止光刻機, 國產巨頭突破3nm, 美國院士: 怎麼做到的?

“一代

晶片

，一代裝置”

半導體

行業中有這樣的一個共識，叫做“

一代晶片，一代裝置

”，也就是說，製造晶片除了技術要求之外，裝置的優劣直接決定著產品的效能。

我國半導體產業之所以不夠先進，

並非是我們技術落後，而是國內沒有相關裝置

，以我國目前約16%的自給率來看，我們至少還有七八十種半導體裝置被海外壟斷著。

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在我國自主造芯的大趨勢下，很多人對

光刻機

都不陌生，作為晶片製造環節核心裝置之一，

光刻機不僅昂貴，而且製造精密複雜，被譽為是工業皇冠上的明珠

，全球90%以上的市場幾乎都在荷蘭巨頭ASML的手裡。

然而ASML公司的光刻產線上卻含有超過20%的美國技術和零配件，在老美所謂的“出口管制”規則下，我們想進口一臺先進的EUV光刻機幾乎是不可能的事兒。

光刻機的國產化程序

好訊息是，在中科院等科研機構的助力下，光刻機的國產化程序發展迅速。

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在今年年初，

唐傳祥教授帶領的清華科研團隊一舉突破了EUV光源技術

，這是EUV光刻機最核心的技術，清華大學取得的科研成果意味著EUV光刻機的國產化已經成功了一半。

僅僅過了兩個多月，國內再次傳出光刻機的好訊息。

上海微電子自研的國產28nm光刻機已經完成測試

，各項效能指標良好，預計年內就可以下線商用。

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我國在光刻領域的進步，一度讓荷蘭ASML公司倍感壓力，為此，其首席官接連數次表態：

願意提供裝置和技術的支援，還將加大在中國市場的投資佈局，只求合作發展

。

ASML態度的轉變印證了一個道理，當我們手握核心技術、變為強者之時，“朋友”就多了起來。

國產巨頭突破3nm裝置

令人振奮的是，好訊息不止光刻機，近日，又一項非常關鍵的國產半導體裝置獲得了突破。

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據知情人士透露，

國內最先進的蝕刻企業中微半導體，成功研發出了3nm蝕刻機

。所有核心技術，包括原型設計、製造組裝以及測試全部都是100%的國產，更重要的是，這項裝置已經通過了權威機構的評估，正式步入了量產階段。

相比光刻機，蝕刻機的“名頭”顯然沒有那麼大。光刻機之所以被大眾熟知，是由於它的特殊性和輿論的烘托，以至於此前很多人都認為突破了光刻技術就等同於實現了晶片自主。

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然而事實是，蝕刻機的作用絲毫不亞於光刻裝置，在光刻工序把線路圖案印上去之後，蝕刻機按照線路圖，把多餘的部分給刻蝕掉。

如果光刻機是晶片製造的“魂”，那麼蝕刻機就是晶片製造的“魄”。

值得強調的是，在刻蝕領域，

中微是全球唯一一家能達到3nm精度的企業

，該國產巨頭的蝕刻機備受臺積電和三星的青睞，目前這兩位代工巨頭均已下單。

美國院士：太快了

我們在刻蝕領域趕超之路可謂是充滿了心酸，中微創始人、蝕刻專家

尹志堯教授

是一位海歸科學家，曾在洛杉磯的加利福尼亞大學獲得博士學位，在矽谷Intel公司、LAM研究所、應用材料公司等電漿蝕刻供職16年。

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之後為了響應國家發展半導體產業的號召，尹志堯放棄了海外“綠卡”，毅然決定回國。

然而，卻遭到了老美的“強行”留人，甚至還數次“竊取”尹志堯科研團隊的研發成果。

慶幸的是，經過數年的“博弈”，尹志堯教授最終還是回來了，並在2004年創立了中微半導體。

用了二十多年的時間，將國產蝕刻裝置從空白期帶到了領航全球的3nm水平！

在中微半導體突破3nm蝕刻機的訊息傳開後，美國科學院士Paul·Thomas感嘆：

這實在是太快了！中國科學家僅用了二十年的時間就走完了我們近百年的路，並且還完成了超越，這是怎麼做到的？

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總結

Thomas院士問得好，不過，或許很多人都知道怎麼回答：我國半導體裝置的突飛猛進，除了我們的科學家們滿負荷地投入研發之外，你們的技術“圍剿”同樣“功不可沒”。

“繼續封鎖吧，或許再有個五年，我們就什麼都有了！”