國產28nm光刻機都傳了兩年了，那麼它何時能製作出來呢？

按照國內的十三五規劃，我們的目標是研發出“28nm節點浸沒式分步重複投影光刻機”並實現產業化，至於這臺機器什麼時候能出來，我們可以從當前但一些新聞報道中來猜測一二。上海市浦東新區金融工作局官網有一篇名為“浦東金融局走訪調研上海微電子”的文章，其中對上海微電子做了簡短的介紹，稱：“上海微電子是國內唯一從事研發、生產以及銷售光刻機的廠商，預計將於2022年交付首臺28nm工藝國產沉浸式光刻機，國產光刻機從此將突破到28nm製程。”

此文的背景是上海浦東金融局去上海微電子做調研和開座談會時，上海微電子高管當時就光刻機業務做了詳細介紹。這一資訊相當於是上海微電子自己官宣了28nm節點光刻機的推出時間，而上海部門官網又釋出了對應的新聞，一定程度上也意味這是官方認可的資訊。

從配套產業來看光刻機進度，我國中科院之前制定了02專項，也就是“極大規模積體電路製造裝備及成套工藝”，根據這一戰略大目標，國內將調集所有能動用的科研機構來研發光刻機以及配套的裝置，光中科院旗下的機構就包括長春光機所、光電所（成都）、上海光機所等單位，此外還有一大批高等院校。

目前來說，光刻機核心的子系統我們都已經取得突破，比如雙工件臺、浸液系統、準分子鐳射光源等都已經解決，當前都在由配套的廠商在進行生產建設，對應的工廠有的在建，有的快要完工。比如光刻機中的光學和物鏡系統，涉及產業化的企業是國望光學，2019年底時生產基地開工，計劃2023年建成。

從以上光刻機配套產業的進度來看，基本上可以看出國產光刻機的進度也應該八九不離十，配合前述上海微電子2022年的說法，可以說這個時間點是比較可靠的。