PEGDA 光聚合在微立體光刻術中對 3D 列印水凝膠結構和溶脹的影響

最近，阿聯酋哈利法大學和倫斯勒理工學院科研團隊透過結合使用微細加工、結構表徵和反應性粗粒分子動力學模擬來研究固化引數和油墨配方如何影響 3D 列印的 PEGDA 樣品...

標籤：3D列印PEGDA交聯光刻

日期：2021-09-21閱讀全文

造不出高精度光刻機? 中科院打破質疑, 中國芯的路越走越寬了

點選載入圖片在老美的封鎖下，國內光刻市場表現出了前所未有的活力，隨著資本的介入、市場的推動和技術的支援，按照目前我國光刻領域的發展速度，林毅夫所說的三年實現EUV國產化，絕非是好高騖遠，甚至用不了三年，我們就能做到...

標籤：EUV晶片光刻機碳基光刻

日期：2021-07-07閱讀全文

光刻機發展超預期，“中國芯”還遠嗎？

雖然在光刻機只是晶片製造產業鏈上百種裝置的其中一種而已，但是由於其複雜、精密、昂貴的特性，加上輿論的烘托，幾乎所有人都認為，只要突破了光刻裝置的封鎖，就等於實現了“中國芯”...

標籤：光刻光刻機晶片EUV裝置

日期：2021-06-23閱讀全文

造不出高階光刻機？中科院宣佈好訊息，打了誰的臉？

據悉，OPC技術可以在硬體不變的條件下最佳化光刻裝置的照明度，從而提升光刻機的解析度，讓製造出來的晶片有更高的工藝精度...

標籤：光刻光刻機晶片裝置ASML

日期：2021-06-23閱讀全文

中科院突破光刻新技術，ASML明裡降價示好，暗裡卻已展開“圍剿”

光刻機作為晶片製造的核心裝置，是我國半導體產業中的一大短板，為了打破老美與ASML對高階光刻機的壟斷，中科院等國內頂尖科研機構與科技企業展開了通力協作，在不懈的努力之下，國產光刻技術裝置都不斷傳出著破冰的好訊息，國內光刻市場一片生機勃勃的景...

標籤：光刻ASML光刻機我國晶片

日期：2021-06-23閱讀全文

中科院公佈國產光刻機技術進展狀況, 高階光刻機很快來了

中國科學院官網公佈了光刻技術的重要進展，看了以後我很高興，該項成果由中科院所屬的上海光機所負責，目前依據該技術進行的模擬實驗表現非常好...

標籤：光刻光機所技術載入點選

日期：2021-06-18閱讀全文

中科院光刻技術獲新進展, 或領先國外數年, 長達23頁論文曝光

數碼新品彙2021年6月13日報道，近日，中國科學院上海光學精密機械研究所資訊光學與光電技術實驗室提出一種基於虛擬邊與雙取樣率畫素化掩模圖形的快速光學鄰近效應修正技術，模擬結果表明該技術具有較高的修正效率...

標籤：載入點選圖片掩模光刻

日期：2021-06-13閱讀全文

中科院官宣，國產光刻機取得突破，ASML的擔憂即將變為現實

上海光學所取得的重大光刻技術突破，引起了美科技界的很大震動，紛紛表示：美國自己把事情搞大了，中國一旦研製出高階光刻機，不但ASML公司有可能會退出光刻機市場，美芯也將受到很大的打擊...

標籤：光刻機光刻ASML晶片技術

日期：2021-06-11閱讀全文