相關限制再次升級，臺積電南京計劃“泡湯”，中芯裝置供應將中斷

瞭解更多科技資訊盡在“圈聊科技”。

今天跟大家聊一聊：相關限制再次升級，臺積電的南京計劃“泡湯”，吳漢明院士猜對了。

在美國相關限制之下，國內半導體的發展面臨著嚴峻的考驗，特別對於晶片領域來說，各大產業鏈均受到了不同程度的影響，華為晶片供應渠道被切斷，中芯國際被加入“黑名單”等等一系列舉措，在很大程度上打擊到了行業的正常發展。

在面臨這樣的局勢之下，國內的院士吳漢明多次表態：“高度依賴進口的7nm生產線，甚至比完全自主化的55nm生產線作用還要小，我們應該把更多的精力放在成熟工藝上，不要跟隨他們研發5nm的先進工藝。”

成熟工藝的重要性

剛開始這樣的言論引起了國人的一致反對，認為這是“不思進取”的表現，不過在2021年的世界半導體大會上，經由吳漢明院士詳細解析之後，國人逐漸明白了院士的初衷。依靠國內目前的工業水平，很難支撐得起先進製程工藝的發展，還不如把所有的精力放在成熟工藝的自主化上。

而目前國內有超過90%的晶片需求來自於成熟工藝，如果我們能夠實現成熟工藝的自主化，可以在很大程度上降低晶片的進口份額。而對於那些先進的製程工藝，基本都只集中在手機等等移動裝置上，從國家層面來考慮的話，暫時對晶片的效能沒有那麼高的需求，因此孰輕孰重也非常明顯了。

而此前國內也制定了要在2025年實現70%的晶片自主化，如果一味地追求先進的製程工藝，這樣的目標顯然是不可能完成的，因此對於我們來說，佈局成熟的製程工藝才是目前所需要的，因此中芯國際才會大量擴產28nm生產線。

美國再次升級相關限制

然而令人沒想到的是，在國內暫時放棄先進工藝，開始佈局28nm生產線的時候，美國卻再一次升級了相關限制，不允許任何的美國企業向國內出口28奈米相關的半導體裝置，

也就意味著ASML對於國內28nm光刻機的供應再次中斷了，而且還要求臺積電不得以任何方式往國內轉移相關裝置。

之前相關性限制還只是針對7nm以及5nm的裝置，主要在於先進的EUV光刻機上，如今就連淘汰的DUV光刻機都不供應了，我們的計劃再一次被美國看透了，他們的目的就是為了阻礙國內晶片企業的自主化佈局，杜絕一切有利於中國半導體企業崛起的“苗頭”。

還有一個不好的訊息就是，臺積電在南京的計劃估計也要“泡湯”了，此前臺積電打算投資29億美元，在南京擴產28nm的生產線，在升級後的相關限制之下，估計這個計劃已經實現不了了。

吳漢明院士猜對了

在我們深知28nm晶片的重要性之後，國內的企業開始大力佈局相應的生產線，但是我們的一舉一動依然逃不過他們的眼睛，再次升級的相關限制，就是為了壓制國產晶片的自主化發展，還真的被吳漢明院士給猜中了，28nm晶片才是目前我們迫切需求的。

在院士的多次呼籲之下，中芯國際早就已經大徹大悟了，籌集了上百億的資金，為擴充28奈米的生產線做好準備，此前和ASML簽訂的12億美元光刻機合同，這部分的光刻機就是用於28奈米生產線的佈局，中芯國際在28奈米晶片的量產上，成品率已經足以比肩臺積電，但如果離開了美國的裝置，能否順利完成生產線的佈局也成為了一個未知數。

晶片領域的技術困境

就連臺積電目前都無法完全擺脫美國的技術，更不用說中芯國際了，其中有兩個繞不開的點，其一就是晶片製造材料矽基，其二就是光刻機了，這兩項頂尖工藝想要在短期之內攻克不太現實，雖然我們在可替代的半導體材料上已經取得了重大突破，但是想要實現石墨烯以及光量子晶片的商用，肯定是還需要很長的一段時間的。

而目前我們需要做的就是盡全力實現技術的自主化，由上海微電子組裝的國產光刻機也即將誕生，如果中芯國際能夠打造出一條完全自主化的成熟工藝生產線，逐漸淡化對於美國的技術依賴，那麼華為的困境就能夠隨之解除了，雖然暫時不能達到理想狀態，但實現自主國產化是我們邁出的第一步，我們必須要去實現它，對此你們有什麼樣看法呢？