中國半導體正在不斷地突破

臺積電這一下要著急了，中國半導體正在不斷地突破臺積電，張仲謀曾說過就算舉國之力也造不出光刻機，但他還是低估了我們突破技術重圍的決心。就現在臺積電後悔也晚了

前不久上海微電子捷報傳來成功突破了14奈米的晶片工藝，最近中芯國際也跟著傳出與阿斯邁爾達成了12億美金的大單。中芯國際還放出訊息，4月將進行七奈米的流片測試晶片，一旦進入了流片階段，量產就指日可待了。但值得注意的是西方國家為了更好地進行商業合作，不斷地慫恿臺積電赴美建廠。網傳臺積電將斥資120億美元在亞利桑那州建設晶圓廠將產能轉移到美國

張仲謀本以為大陸無法向更先進的工藝製程發出衝擊，但結果恰恰相反。短短的幾年時間晶片製程工藝已經從28NM突破至7NM，現在想回來已經晚了，這意味著即使我們沒有阿斯邁爾的EUV光刻機也能夠做出七奈米的晶片。也就是說中芯是全球第三家掌握十奈米以下工藝的晶片企業，未來只要阿斯邁爾把極紫外光刻機給到我們，中芯和臺積電就要站在同一個起跑線上

一直以來臺積電霸佔著這個市場，常常掌握著絕對的話語權，中芯與臺積電的大戰屢屢受挫，但意外的是中國半導體並沒有放棄，而是在一次向世界先進製程發起了衝鋒，鑄就了中國晶片的崛起。

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